台积电16nm制程大热:海思量产,苹果试投

上网时间: 2014年09月29日? 作者:经济日报,工商时报? 我来评论 【字号: ? ?小】

关键字:台积电16nm制程? 海思16nm网络芯片? 苹果应用处理器?

台积电最近助海思半导体(HiSilicon)成功产出全球首颗以16纳米鳍式场效晶体管(FinFET)的ARM架构网络芯片,设备厂透露,这项成就宣告台积电16纳米在面临三星及英特尔进逼下,已取得压倒性胜利。

此外,台积电也正式向英特尔宣战,目标是二年内在10纳米晶体管技术追平英特尔,届时在芯片闸密度及金属层连结等二要项都超越英特尔,将让台积电称冠全球,并奠定全球晶圆代工不可撼动的地位。

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台积电的这项成就,是昨天出席台积电高雄气爆感恩与祝福餐会的半导体设备厂所透露,针对台积电宣布全球首颗16纳米产品完成产品设计(tape-out)后,点出台积电在16纳米FinFET的重要成果。

不愿具名的设备商指出,台积电为海思成功产出的全球首颗以16纳米生产、功能完备的网通处理器,等于宣告海思具备可以提供自家集团华为的核心处理器。该晶片是以ARMv8架构为基础的32核心ARM Cortex-A57网络芯片,运算速度可达2.6GHz。

华为目前是向英特尔采购以22纳米制程的网络芯片,台积电与海思的合作,也代表中国大陆已具备自主生产高阶网络芯片的地位,对英特尔带来一定程度的威胁。

同时根据设备业者消息,台积电16奈米FinFET Plus制程也进入试投片(try run)先前作业阶段,可望提前至第4季试产,主要客户除了绘图晶片厂英伟达(NVIDIA)、FPGA厂商赛灵思(Xilinx)、手机芯片厂商高通外,众所瞩目的苹果新款应用处理器也将试投片清单中。

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对台积电而言,台积电也用实例,向英特尔证明台积电16纳米FinFET制程,并未如先前英特尔唱衰在芯片闸密度比英特尔还低30%,台积电不但在20纳米就已超越英特尔,16纳米FinFET更大幅领先。

此外,面对三星先前一直强调16纳米FinFET远远领先台积电,台积电率先提出产出成功案例,回击三星的口水战,等于左打英特尔,右踢三星,台积电有信心在16纳米FinFET会取得压倒性胜利。

相较于台积电的28纳米高效能行动运算(28HPM)制程,16纳米FinFET制程的晶片闸密度增加两倍,在相同功耗下速度增快逾40%,或在相同速度下功耗降低逾60%。

台积电的16纳米FinFET制程早于去年11月即完成所有可靠性验证,良率表现优异,如今进入试产阶段,为台积电与客户的产品设计定案、试产活动与初期送样打下良好基础。

半导体人士强调,半导体评断技术实力,看的是晶体管效能、芯片金属层连结及芯片闸密度,后二者台积电都已超越英特尔,一旦台积电二年内在晶体管效能追平英特尔,台积电将可正式跃居全球半导体新霸主地位,为台湾缔造新的历史地位。


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