JMAR计划收购X射线步进机制造商

上网时间: 2001年05月02日? 我来评论 【字号: ? ?小】

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为了在下一代光刻应用中与EUV技术竞争,JMAR计划收购X射线步进机系统制造商--半导体先进光刻公司(SAL)。

JMAR表示,SAL已生产出X射线光刻工具,可以形成100纳米(0.10微米)的电路。JMAR计划将自己的激光等离子体X射线源与SAL的步进机和其它支持技术结合起来,制造下一代光刻系统。该公司称,这种光刻系统将比采用EUV技术的系统更便宜,同时上市时间也更快。

JMAR初步计划在2002年底前将它的X射线源和SAL的exposure工具结合起来,为砷化镓(GaAs)芯片厂提供服务。这些GaAs芯片面向无线和宽带通信系统中的高速应用。

但JMAR还想直接与EUV技术竞争。EUV技术得到英特尔和数家美国芯片制造商的大力支持,这些厂商认为它是最好的下一代光刻技术之一。以英特尔为首的EUV Limited Liability联合公司最近宣布了加快开发EUV技术的计划,定于2003年前推出用于工艺开发的测试版原型机。


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